Магнетронные распылительные системы с планарным катодом

Творческая работа, 29 Ноября 2013, автор: пользователь скрыл имя

Описание работы


В настоящее время магнетронные распылительные системы стали одними из наиболее широко используемых ионно-плазменных технологических устройств.
До середины 70-х годов прошлого столетия тонкие слои на подложки в вакууме наносились в основном методом термического испарения исходного материала; ионное (катодное) распыление, осуществляемое с помощью газоразрядных диодных и триодных систем, играло меньшую роль из-за низкой производительности.
МРС заняли лидирующее положение в технологии тонкослойных покрытий для микроэлектроники, устройств записи информации и дисплеев

Содержание работы


Введение
История магнетронных распылительных систем
Основные характеристики магнетронных распылительных систем
Преимущества и недостатки магнетронных распылительных систем
Виды магнетронных распылительных систем
Магнетронные распылительные системы с планарным катодом
Сравнение магнетронных распылительных систем
Применение магнетронных распылительных систем
Заключение

Файлы: 1 файл

Магнетронные распылительные системы с планарным катодом.ppt

— 238.00 Кб (Просмотреть файл, Скачать файл)

Открыть текст работы Магнетронные распылительные системы с планарным катодом