Магнетронные распылительные системы с планарным катодом
Творческая работа, 29 Ноября 2013, автор: пользователь скрыл имя
Описание работы
В настоящее время магнетронные распылительные системы стали одними из наиболее широко используемых ионно-плазменных технологических устройств.
До середины 70-х годов прошлого столетия тонкие слои на подложки в вакууме наносились в основном методом термического испарения исходного материала; ионное (катодное) распыление, осуществляемое с помощью газоразрядных диодных и триодных систем, играло меньшую роль из-за низкой производительности.
МРС заняли лидирующее положение в технологии тонкослойных покрытий для микроэлектроники, устройств записи информации и дисплеев
Содержание работы
Введение
История магнетронных распылительных систем
Основные характеристики магнетронных распылительных систем
Преимущества и недостатки магнетронных распылительных систем
Виды магнетронных распылительных систем
Магнетронные распылительные системы с планарным катодом
Сравнение магнетронных распылительных систем
Применение магнетронных распылительных систем
Заключение
Файлы: 1 файл
Магнетронные распылительные системы с планарным катодом.ppt
— 238.00 Кб (Скачать файл)Магнетронные распылительные си
Выполнил: студент гр. 13А82
К.О. Журавлева
Проверил: С. Н. Янин
Содержание
- Введение
- История магнетронных распылительных систем
- Основные характеристики магнетронных распылительных систем
- Преимущества и недостатки магнетронных распылительных систем
- Виды магнетронных распылительных систем
- Магнетронные распылительные системы с планарным катодом
- Сравнение магнетронных распылительных систем
- Применение магнетронных распылительных систем
- Заключение
Введение
- В настоящее время магнетронные
распылительные системы стали одними из наиболее широко испо льзуемых ионно-плазменных техн ологических устройств. - До середины 70-х годов прошлого столетия тонкие слои на подложки в вакууме наносились в основном методом термического испарения исходного материала; ионное (катодное) распыление, осуществляемое с помощью газоразрядных диодных и триодных систем, играло меньшую роль из-за низкой производительности.
- МРС заняли лидирующее положение в технологии тонкослойных покрытий для микроэлектроники, устройств записи информации и дисплеев
История магнетронных распылите
- Исторически, впервые магнетронное распылени
е как технологический метод бы ло предложено Ф. Пеннингом в 1935 году и запатентовано им в неск ольких странах. - В 60-х годах в связи с потребностью в развитии технологии плёночной микроэлектроники снова стали проводить эксперименты по распылению материалов в магнетронном разряде.
- В 70-х годах Дж. Торнтон выполнил цикл фундаментальных работ по исследованию разряда в цилиндрических системах и предложил ряд конструкций МРС, в частности, систему со стержневым катодом, которая до сих пор применяется в промышленной технологии.
Основные характеристики магнет
Магнетронную распылительную
- -напряжение разряда, ток разряда и средняя плотность тока на катоде;
- -допустимый диапазон давления рабочего газа;
- -величина и форма магнитного поля над поверхностью катода;
- -вольтамперная характеристика разряда;
- -скорость распыления катода /скорость роста покрытия;
- -коэффициент использования материала катода;
- -максимальная электрическая мощность разряда и максимальная мощность, снимаемая с катода.
Преимущества и недостатки магн
Преимущества МРС :
- высокие скорости нанесения покрытия
- невысокие тепловые нагрузки на подложку
- возможность нанесения
- возможность нанесения
- возможность нанесения
Недостатки МРС:
- относительно высокая
- нестабильность реактивных
процессов при нанесении
Виды магнетронных распылительн
- Основным элементом МРС являетс
я распыляемый катод-мишень. Можно выделить три наиболее пр именяемые типа магнетронов раз личающихся по форме катода: - - плоские МРС с дисковым катодом или протяженным катодом (планарные МРС)
- - цилиндрические МРС
- - МРС с конической мишенью
Основные конструктивные схемы
МРС: а) плоская (планарная) МРС, б) цилиндрическая
МРС, в) МРС с конической мишенью.
1 – катод-мишень; 2 – анод; 3 –магнитная
система; 4 – силовые линии магнитного
поля
Магнетронные распылительные си
Схема магнетронной
- Средние скорости осаждения раз
личных материалов с помощью ма гнетронной распылительной сист емы, имеющей плоскую дисковую мишен ь диаметром 150 мм, при мощности источника 4 кВт и расположении подложки на расстоянии 60 мм от источника приведены в та блице.
Сравнение магнетронных распыли
Термовакуумный метод,
характеризующийся простотой и
высокими скоростями осаждения не
обеспечивает достаточной
воспроизводимости свойств
особенности при осаждении
сложного состава, не позволяет
испарить тугоплавкие
Электронно-лучевой нагрев, обеспечивая
высокие скорости осаждения, характеризуется
низким коэффициентом
Метод получения пленок ионным
распылением материалов
В магнетронных распылительных
систем увеличение скорости
Применение магнетронных распыл
- Потенциальные возможности прим
енения магнетронных распылител ьных систем и настоящее время еще далеко неполностью выяснен ы и реализованы. - Наиболее ярко достоинства этих систем проявляются при осаждении пленок металлов и сплавов, получении оптических покрытий, получении магнитных пленок, а также пленок сверхпроводящих материалов.
- Протяженные магнетронные распылительные системы с планарным катодом применяются при нанесении покрытий на крупногабаритные детали (архитектурные стекла, рулонные материалы и т.д.).
Заключение
- В целом магнетронные распылите
льные системы являются одним и з наиболее перспективных техно логических устройств в ионно-п лазменной технологии. Эти системы имеют неоспоримые преимущества при нанесении пок рытий на большие площади, что ставят их на первое место при создании рулонных и листов ых материалов со специальными свойствами. Например, гибкие печатные платы, легкие электростатические экра ны и экранно-вакуумная изоляци я для космической техники, теплосберегающее остекление, экраны систем отображения инфо рмации
Спасибо за внимание!!!