Нанесение металлических плёнок методом магнетронного распыления на установке «Оратория -5»

Доклад, 04 Марта 2013, автор: пользователь скрыл имя

Описание работы


При подаче постоянного напряжения между мишенью (отрицательный потенциал) и анодом (положительный потенциал) возникает неоднородное электрическое поле и возбуждается тлеющий разряд. В установке «Оратория-5» в качестве анода выступает держатель подложки и стенки камеры. Наличие замкнутого магнитного поля к распыляемой поверхности мишени позволяет локализовать плазму разряда непосредственно у мишени.

Файлы: 1 файл

магнетронное распыление.doc

— 48.50 Кб (Просмотреть файл, Скачать файл)

Открыть текст работы Нанесение металлических плёнок методом магнетронного распыления на установке «Оратория -5»