Автор работы: Пользователь скрыл имя, 10 Сентября 2013 в 19:47, доклад
Установка вакуумная модели ВУ700Л (в дальнейшем – установка) предназначена для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия.
Установка обеспечивает возможность нанесения металлических, однослойных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопроводящих и других оптических покрытий для области спектра по заданной программе.
1.
Назначение
3
2.
Технические характеристики
4
3.
Комплектность
7
4.
Устройство и работа составных частей
13
4.1.
Схема вакуумная
13
4.2.
Схема пневматическая
16
4.3.
Схема гидравлическая
19
4.4.
Установка
21
4.4.1.
Установка
21
4.4.2.
Форвакуумный агрегат
22
4.4.3.
Каркас
23
4.5.
Вакуумная камера
24
4.6.
Затвор
25
4.7.
Клапаны вакуумные
25
4.7.3.
Расходомер РРГ-12
27
4.7.4.
Клапан напуска воздуха
28
4.8.
Резистивный испаритель
29
4.9.
Устройство подколпачное
31
4.9.1.1.
Механизм перевода контрольного образца
33
4.9.1.2.
Узел вращения арматуры
35
4.9.1.3.
Ввод вращения арматуры
37
4.10.
Привод заслонок
38
4.11.
Кварцевый резонатор
42
4.12.
Ионный источник «АИДА»
42
4.13.
Арматура
43
4.14.
Испаритель электронно-лучевой
44
4.15.
Электрооборудование
57
5.
Указание мер безопасности
59
6.
Подготовка установки к работе
63
7.
Порядок размещения установки
67
8.
Порядок работы
68
9.
Возможные неисправности
69
10.
Техническое обслуживание
71
11.
Консервация
76
12. Сведения о консервации, упаковывании и транспортировании
77
13.
Свидетельство об упаковывании
79
14.
Свидетельство о приемке
80
15.
Заметки по эксплуатации и хранении
81
СОДЕРЖАНИЕ
1. |
Назначение |
3 |
2. |
Технические характеристики |
4 |
3. |
Комплектность |
7 |
4. |
Устройство и работа составных частей |
13 |
4.1. |
Схема вакуумная |
13 |
4.2. |
Схема пневматическая |
16 |
4.3. |
Схема гидравлическая |
19 |
4.4. |
Установка |
21 |
4.4.1. |
Установка |
21 |
4.4.2. |
Форвакуумный агрегат |
22 |
4.4.3. |
Каркас |
23 |
4.5. |
Вакуумная камера |
24 |
4.6. |
Затвор |
25 |
4.7. |
Клапаны вакуумные |
25 |
4.7.3. |
Расходомер РРГ-12 |
27 |
4.7.4. |
Клапан напуска воздуха |
28 |
4.8. |
Резистивный испаритель |
29 |
4.9. |
Устройство подколпачное |
31 |
4.9.1.1. |
Механизм перевода контрольного образца |
33 |
4.9.1.2. |
Узел вращения арматуры |
35 |
4.9.1.3. |
Ввод вращения арматуры |
37 |
4.10. |
Привод заслонок |
38 |
4.11. |
Кварцевый резонатор |
42 |
4.12. |
Ионный источник «АИДА» |
42 |
4.13. |
Арматура |
43 |
4.14. |
Испаритель электронно-лучевой |
44 |
4.15. |
Электрооборудование |
57 |
5. |
Указание мер безопасности |
59 |
6. |
Подготовка установки к работе |
63 |
7. |
Порядок размещения установки |
67 |
8. |
Порядок работы |
68 |
9. |
Возможные неисправности |
69 |
10. |
Техническое обслуживание |
71 |
11. |
Консервация |
76 |
12. |
Сведения о консервации, упаковывании и транспортировании |
77 |
13. |
Свидетельство об упаковывании |
79 |
14. |
Свидетельство о приемке |
80 |
15. |
Заметки по эксплуатации и хранении |
81 |
1.1. Установка вакуумная модели ВУ700Л (в дальнейшем – установка) предназначена для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия.
Установка обеспечивает возможность нанесения металлических, однослойных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопроводящих и других оптических покрытий для области спектра по заданной программе.
1.2. Весь технологический процесс (откачка вакуумной камеры, нанесение покрытий, контроль) выполняется в автоматическом режиме. Так же предусмотрен наладочный «ручной» режим.
1.3. Установка в климатическом исполнении УХЛ 4.2 по ГОСТ 15150-69 должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях в условиях, соответствующих требованиям РТМ 3-677-75 при температуре окружающего воздуха от 17 до 280С, относительной влажности от 40 до 75% и атмосферном давлении от 9,6.10 до 10,6.10 Па ( от 720 до 780 мм рт.ст.).
1.4 Установка подключается к трехфазной четырехпроводной сети переменного тока частотой 50 Гц напряжением 380 В. Допускаемые отклонения на частоту и напряжение по ГОСТ 13109-87.
1.5. На установку подается:
- холодная вода под давлением от 3.105 до 5.105 Па(от 3 до 5 кгс/см2) и температурой от 5 до 250С;
- горячая вода под давлением от 3.105 до 5.105 Па (от 3 до 5 кгс/см2) и температурой от 70 до 800С;
Вода, подаваемая в вакуумную установку, должна соответствовать требованиям СТБ 1188-99 и СанПиН 10-124 РБ 99, а также следующим значениям:
Сжатый воздух, подаваемый в вакуумную установку, должен соответствовать классу 5 по ГОСТ 17433-80 и быть очищен от влаги и механических частиц групповым цеховым фильтром-влагоотделителем.
1.6 Вакуумная установка
подключается к цеховой
Таблица 2.1.
Параметр, характеристика |
Величина |
1. Время достижения в камере давления 1*10-3 Па без прогрева рабочего объема камеры, при рабочем режиме турбомолекулярного насоса с начала откачки воздуха из камеры, мин, не более.
2. Натекание в камеру после прогревания ее при температуре 3000С в течение 10 часов и последующей откачки воздуха из камеры до давления 4.10-4 Па в течение 1 часа, замеренное при закрытых форвакуумном клапане и затворе, Вт, не более.
3. Регулируемый диапазон частоты вращения арматуры, с-1 (об/мин).
4. Диапазон нагрева рабочего объема камеры в зоне арматуры при фиксированном положении термопары,0С.
5. Время напуска воздуха в камеру, с, не более.
6. контролируемый диапазон рабочего давления в камере при напуске технологического газа, Па.
7. количество электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ), шт.
8. ускоряющее напряжение ЭЛИ, кВ Допускаемое отклонение - ± 4%
9. Величина тока накала ЭЛИ, А. Допускаемое отклонение от установленного значения – ± 10%
10. Размер сфокусированного пятна ЭЛИ на испаряемом материале, мм, не более: ЭЛИ 1 ЭЛИ 2 |
30
4.10-4
от 0,1 до 1,0 (от 6 до 60)
от 30 до 350
120
От 1.10-3 до 1.33
2
6 ; 9
от 10 до 40
5 х 8 5 х 8 |
Продолжение таблицы 2.1
|
Параметр, характеристика |
Величина |
11. Диапазон перемещения электронного пучка ЭЛИ по двум взаимно перпендикулярным направлениям, мм , не менее: ЭЛИ 1 по оси «Х» по оси «Y» ЭЛИ 2 по оси «Х» по оси «Y»
12. Диапазон регулирования частоты вращения тигля ЭЛИ, об/мин: ЭЛИ 1
ЭЛИ 2
13. Максимальная мощность ЭЛИ, кВт
14. Количество резистивных испарителей (РИ), шт.
15. Максимальный ток РИ при параллельном соединении вторичных обмоток трансформатора, А, не более
15.1. Максимальный ток РИ при
последовательном соединении
16. Диаметр камеры, мм
17. Вместимость куполообразного подложкодержателя 2119.01.43.000, детали диаметром 40 мм, шт, не менее
18. Контролируемый оптический диапазон, мкм
19. Расстояние от испарителей до контрольного образца, мм
20. Расстояние от оси вращения арматуры до испарителя, мм: ЭЛИ РИ |
±15 ± 15 ±15 ±15
От (0,4±0,2) до (4,0±2,0) от (0,4±0,2) до (4,0±2,0) 9
1
290±10
150+10
700
42
0,4÷2,6
555-565
180+15 180-260 |
Продолжение таблицы 2.1
|
Параметр, характеристика |
Величина |
21. Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуре, кг, не более
22. Расход холодной водопроводной воды в системе охлаждения при давлении на входе от 3.105 до 5.105Па(от 3 до 5 кгс/см2), л/с, не менее
23. Расход горячей водопроводной воды в системе прогрева при давлении на входе от 3.105 до 5.105 Па (от3 до 5 кгс/см2), л/с, не менее 24. Средний уровень звука, дБа, не более
25. Среднеквадратичные значение виброскорости в октавных полосах частот 16-63 Гц по общей вибрации, м/с, не более
26. Установленная наработка на отказ вакуумной установки, ч, не более
27. Среднее время восстановления работоспособного состояния, ч, не более
28. Установленный срок службы до капитального ремонта при двухсменной работе при соблюдении правил эксплуатации, лет, не менее
29. Мощность, потребляемая вакуумной установкой, кВт, не более
30. Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой, м2, не более
31. Высота вакуумной установки, мм
32. Масса вакуумной установки, кг, не более |
10
0,14
0,06
80
0,2*10-2
200
4
8
30
6
2100
1280 |
3. КОМПЛЕКТНОСТЬ.
Таблица 3.1.
Поз. по рис. 3.1., 3.2., 3.3. |
Обозначение |
Наименование |
Кол. |
1 |
700Л.01.02.000 |
Каркас |
1 |
2 |
2119.01.03.000 |
Камера вакуумная |
1 |
3 |
Edwards E2M80/EH250 |
Форвакуумный агрегат |
1 |
4 |
Zhimadzu TMP-2003 |
Турбомолекулярный насос |
1 |
5 |
VAT ISO250 |
Затвор высоковакуумный |
1 |
6 |
701Л.01.20.000 |
Узел откачки, в том числе |
1 |
6.1 |
XLAV-40G-A90LA-5L-Q |
Клапан форвакуумный |
1 |
6.2 |
XLAV-63G-A90LA-5L-Q |
Клапан байпасный |
1 |
6.3 |
2119.01.17.000 |
Клапан аварийный |
1 |
7 |
Мотор-редуктор 03/В5 v315 |
Привод электронно-лучевого испарителя |
2 |
8 |
700Л.01.300.000 |
Привод перевода контрольного образца |
1 |
9 |
700Л.01.500.000 |
Привод вращения арматуры |
1 |
10 |
Система управления общая |
1 | |
11 |
Система управления высоковольтным блоком |
1 | |
12 |
701Л.01.18.100 |
Пневмосистема |
1 |
13 |
ГМ4Б |
Генераторная лампа |
1 |
14 |
700Л.09.01.090 |
Вентилятор обдува лампы ГМ-4Б |
1 |
15 |
Zhimadzu EI-D2003M |
Контроллер турбомолекулярного насоса |
1 |
16 |
Блок питания ионного источника «АИДА» |
1 | |
17 |
ZSV1.00.02/000 |
Sweep-контроллер |
1 |
18 |
SQM-160* |
Блок управления кварцевого контроля |
1 |
19 |
SF-TFD v3.2 |
Блок оптического контроля |
2 |
20 |
РРС-L128T-06BTO |
Панельный компьютер |
1 |
21 |
Трансформатор резистивного испарителя |
2 | |
22 |
701Л.01.18.200 |
Гидросистема |
1 |
23 |
Силовой высоковольтный блок |
1 | |
24 |
РРГ12 |
Расходомер |
2 |
25 |
900.00.06.000 |
Электронно-лучевой испаритель |
2 |
26 |
2116.01.10.000 |
Токовводы резистивного испарителя |
2 |
27 |
ИЖН152.00.00.000 |
Ионный источник «АИДА» |
1 |
28 |
2116.01.01.780 |
Заслонка |
3 |
29 |
2116.01.12.010 |
Высоковольтный ввод |
4 |
30 |
Иллюминатор кварцевый |
1 |
Позиции *) поставляются по отдельному заказу
Рис.3.1. Общий вид установки – вид спереди
Рис.3.2. Общий вид установки – вид сбоку
Рис.3.3. Общий вид установки – вид сверху
Рис.3.4. Поперечный разрез вакуумной камеры
Рис.3.5. Высоковольтный ввод (см. рис.3.4., разрез Ж-Ж).
4.УСТРОЙСТВО И РАБОТА
4.1. Схема вакуумная (рис. 4.1.).
4.1.1. После включения пластинчато-роторного насоса N1 (рис. 4.1.) открывается аварийный клапан VE1 и производится откачка участка форвакуумной линии до клапанов V1 и V2, при этом все вакуумные клапаны закрыты. При достижении на этом участке форвакуумной линии давления 4,5х104 Па, о чем свидетельствует датчик Р1, открывается форвакуумный клапан V1 и производится откачка турбомолекулярного насоса Zhimadzu TMP-2003 при условии если давление в турбомолекулярном насосе больше чем 4,5х104 Па. При достижении в турбомолекулярном насосе давления 4,5х104 Па (датчик Р2) включается вторая ступень N2, при достижении на этом участке форвакуумной линии давления меньшего, чем в турбомолекулярном насосе, о чем свидетельствует датчик Р1, открывается форвакуумный клапан V1 и производится откачка турбомолекулярного насоса Zhimadzu TMP-2003.
4.1.2. При достижении в
4.1.3. После этого открывается байпасный клапан V2. Откачка объема рабочей вакуумной камеры CV производится насосом N1. Низкий вакуум в камере CV замеряется датчиком Р3. При достижении в камере соответствующего давления байпасный клапан V2 закрывается.
4.1.4. Открывается форвакуумный клапан V1 и насосы N1 и N2 производят откачку турбомолекулярного насоса ТМР (при необходимости). Открывается высоковакуумный затвор V3 при давлении 10…15 Па. Высокий вакуум в камере замеряется датчиком S1.
4.1.5. После завершения процесса дегазации закрывается затвор V3, включается клапан VЕ2 и через промежуток времени производится напуск воздуха в камеру. Турбомолекулярный насос ТМР работает в дежурном режиме. Насосы N1 и N2 откачивают турбомолекулярный насос.